但是，华为后对于目前MMCs中使用较多的还原氧化石墨烯（RGO）增强体，在粉末冶金制备温度窗口（500-1000°C）内缺乏有效的片层连接机制。
(c)不同的Mo释放量下，问界反应体系中Mo蒸汽浓度随着与反应源距离的增加的变化趋势。同时，杀入由于MoTe2极差的稳定性与苛刻的生长条件，杀入MoTe2的CVD生长一般极难控制，本文也只是说明这种氧化物辅助的方法可以被应用于MoTe2的优化生长，未做过多讨论。
目前已经发表论文27篇，华为后其中第一作者/共同一作论文8篇（包括IF10的论文3篇）。问界(i)制备得到的MoSe2连续单层薄膜的光学图片（标尺为200微米）。人们一般通过调节S的蒸发温度与蒸发时间来寻找最佳的反应条件，杀入但Mo源对于S蒸汽浓度变化的复杂响应使得这一调节手段十分低效，杀入同时也使得MoS2的生长极易受到外界环境变化的扰动，这解释了MoS2的生长难以重复的特点。
华为后(g)Mo蒸汽在不同用量的SnO2抑制层中的扩散示意图。问界图4.(a-c)Al2O3作为抑制层辅助生长的MoSe2样品在衬底的不同位置上的光学图像（标尺为200微米）。
利用氧化物抑制层辅助的CVD反应，杀入我们成功制备了1T相MoTe2的单层以及双层结构，杀入和此前报道的结果类似，制备得到的MoTe2呈不规则的带状，而不是完整规整的几何结构。
MoSe2样品的(e)拉曼光谱，华为后(f)荧光光谱，(g)HAADF-STEM图片以及(f)原子力显微镜图片。1、问界Nature2、问界Science3、PNAS4、AM5、Angew6、JACS7、NatureCommunications8、Nature Chemistry9、Nature Photonics10、Nature Physics11、Nature Nanotechnology12、NatureBiotechnology13、Chem14、Science Advances15、Nature Materials从以上数据我们不难得到这样几个结论：1、美国在顶刊发表中依然扮演领头羊的角色，并且在数量上远远领先其他国家。
在这里，杀入你可以了解很多有用的期刊信息。总体上而言，华为后欧美国家的顶刊发文数量十分可观，亚洲主要集中在中日韩新加坡四个国家。
总体说来，问界单论顶刊数量，我们还需多多努力，多发顶刊，希望在JournalCitationReports的统计中可以看到更多中国结构的身影。特别是AM，杀入中国总量是第一，杀入并且在接下来的机构统计中，排名前十有一半是中国的科研机构，具体是什么原因，大家可以在留言区提出自己的见解，与读者们一同分享。
